超凈高純試劑系列
                                  光刻膠配套試劑系列
                                  江化概況
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                                  超凈高純試劑系列
                                  品名 英文名 分子式 級別
                                  SL UL VL EL
                                  過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
                                  硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
                                  鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
                                  硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
                                  光刻膠配套試劑系列
                                  品名 英文名 型號
                                  負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
                                  負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
                                  負膠漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
                                  負膠顯影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
                                   
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